LR EH36 এবং LR EH55 ইস্পাত প্লেটের মধ্যে পার্থক্য

LR EH36 হল একটি উচ্চ-শক্তির শিপবিল্ডিং স্টিল প্লেট যা লয়েডস রেজিস্টার (LR) দ্বারা প্রত্যয়িত৷ "EH" উপাধিটি বোঝায় এটি -40 ডিগ্রিতে পরীক্ষিত প্রভাব, আর্কটিক অপারেশনগুলির মতো ঠান্ডা-পরিবেশের অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য চমৎকার কঠোরতা নিশ্চিত করে৷ এটির সর্বনিম্ন ফলন শক্তি 355 MPa এবং প্রসার্য শক্তি 490 থেকে 630 MPa পর্যন্ত। ন্যূনতম প্রসারণ 21%। রাসায়নিক গঠন কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রিত হয় কার্বন 0.18% এর চেয়ে কম বা সমান এবং ম্যাঙ্গানিজ 0.90-1.60%। এই গ্রেডটি হুল নির্মাণ, অফশোর প্ল্যাটফর্ম এবং কঠোর সামুদ্রিক পরিস্থিতিতে কাজ করা জাহাজের জটিল কাঠামোগত উপাদানগুলির জন্য ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

LR EH55 হল একটি অতি-উচ্চ-শক্তির সামুদ্রিক ইস্পাত প্লেট যা লয়েডস রেজিস্টার (LR) দ্বারা প্রত্যয়িত এবং -40 ডিগ্রীতে পরীক্ষিত প্রভাবের দৃঢ়তা। "55" 100 মিমি পর্যন্ত পুরুত্বের জন্য ন্যূনতম 18% প্রসারিত সহ 550 MPa এবং প্রসার্য শক্তি 670 থেকে 830 MPa পর্যন্ত ন্যূনতম ফলন শক্তি নির্দেশ করে৷ প্রভাব শক্তি প্রয়োজনীয়তা ন্যূনতম 55J (অনুদৈর্ঘ্য) বা 37J (ট্রান্সভার্স) -40 ডিগ্রি। রাসায়নিক সংমিশ্রণে 0.20% এর চেয়ে কম বা সমান কার্বন, 1.70% এর চেয়ে কম বা সমান ম্যাঙ্গানিজ, Nb এবং V সহ মাইক্রোঅ্যালোয়িং উপাদান রয়েছে। এই গ্রেডটি জাহাজ নির্মাণে এবং দাবিকৃত অফশোর অ্যাপ্লিকেশনের সমালোচনামূলক, অত্যন্ত চাপযুক্ত কাঠামোগত সদস্যদের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে।

LR EH36 এবং LR EH55 উভয়ই LR-প্রত্যয়িত উচ্চ-শক্তির সামুদ্রিক ইস্পাত চমৎকার কম-তাপমাত্রা কঠোরতা -40 ডিগ্রিতে পরীক্ষিত, কঠোর সামুদ্রিক পরিবেশে নির্ভরযোগ্য কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে৷ তাদের প্রাথমিক পার্থক্য শক্তি স্তরের মধ্যে রয়েছে: EH36 490-630 MPa এর প্রসার্য শক্তি সহ 355 MPa এর সর্বনিম্ন ফলন শক্তি সরবরাহ করে, সাধারণ উচ্চ-শক্তির হুল নির্মাণ এবং অফশোর স্ট্রাকচারের জন্য উপযুক্ত, যেখানে EH55 একটি উল্লেখযোগ্যভাবে উচ্চতর সর্বনিম্ন ফলন শক্তি প্রদান করে 0-70 MP3050 টেন্সাইল শক্তি MPa, উচ্চতর শক্তি প্রয়োজন আরো চাহিদা লোড বহন অ্যাপ্লিকেশনের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে. উভয় গ্রেডেই নিয়ন্ত্রিত রাসায়নিক সংমিশ্রণ বৈশিষ্ট্যযুক্ত, EH55 সাধারণত গুরুত্বপূর্ণ সামুদ্রিক পরিষেবার জন্য ভাল ওয়েল্ডেবিলিটি বজায় রেখে এর উন্নত যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলি অর্জনের জন্য আরও উন্নত প্রক্রিয়াকরণের প্রয়োজন হয়।

রাসায়নিক রচনা

যান্ত্রিক সম্পত্তি