LR EH32 এবং LR EH50 স্টিল প্লেটের মধ্যে পার্থক্য কী?

LR EH32 হল জাহাজ নির্মাণ এবং সামুদ্রিক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য লয়েডস রেজিস্টার (LR) দ্বারা প্রত্যয়িত একটি উচ্চ-শক্তির কাঠামোগত ইস্পাত প্লেট৷ "E" গ্রেড বোঝায় যে এটি -40°C তাপমাত্রায় পরীক্ষা করা হয়েছে, 50mm পর্যন্ত পুরুত্বের জন্য ন্যূনতম প্রভাব শক্তি 31J (অনুদৈর্ঘ্য)। এটির সর্বনিম্ন ফলন শক্তি 315 MPa (46 ksi) এবং প্রসার্য শক্তি 440 থেকে 590 MPa (64-83 ksi), সর্বনিম্ন প্রসারণ 22%। রাসায়নিক গঠন কার্বন ≤0.18% এবং ম্যাঙ্গানিজ 0.90-1.60% বৈশিষ্ট্যযুক্ত। এই গ্রেডটি হুল স্ট্রাকচার, অফশোর প্ল্যাটফর্ম এবং সাধারণ সামুদ্রিক উপাদানগুলির জন্য ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় যেখানে ভাল ওয়েল্ডেবিলিটি এবং কম-তাপমাত্রা শক্ততা প্রয়োজন।

LR EH50 হল একটি অতি-উচ্চ-শক্তির সামুদ্রিক ইস্পাত প্লেট যা লয়েডস রেজিস্টার (LR) দ্বারা প্রত্যয়িত এবং -40°C তাপমাত্রায় পরীক্ষিত প্রভাবের দৃঢ়তা। "50" 100 মিমি পর্যন্ত পুরুত্বের জন্য ন্যূনতম 18% প্রসারিত সহ 500 MPa এর ন্যূনতম ফলন শক্তি এবং 610 থেকে 770 MPa পর্যন্ত প্রসার্য শক্তি নির্দেশ করে। প্রভাব শক্তির প্রয়োজনীয়তা ন্যূনতম 50J (অনুদৈর্ঘ্য) বা 33J (ট্রান্সভার্স) -40°C। রাসায়নিক গঠন কার্বন ≤0.20% এবং ম্যাঙ্গানিজ ≤1.70% বৈশিষ্ট্যযুক্ত। এই গ্রেডটি বড় কন্টেইনার ভেসেল, বরফ{21}}মজবুত করা জাহাজ, এবং অফশোর প্ল্যাটফর্মে স্ট্রাকচারাল উপাদানের চাহিদার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে যাতে উচ্চতর শক্তি-থেকে-ওজন অনুপাতের প্রয়োজন হয়।

LR EH32 এবং LR EH50 উভয়ই LR-প্রত্যয়িত উচ্চ-শক্তির সামুদ্রিক ইস্পাত চমৎকার কম-তাপমাত্রা কঠোরতা সহ -40°C এ পরীক্ষা করা হয়েছে, কঠোর সামুদ্রিক পরিবেশে নির্ভরযোগ্য কর্মক্ষমতা নিশ্চিত করে৷ তাদের প্রাথমিক পার্থক্য শক্তির স্তরের মধ্যে রয়েছে: EH32 440-590 MPa এর প্রসার্য শক্তির সাথে 315 MPa এর সর্বনিম্ন ফলন শক্তি সরবরাহ করে, সাধারণ উচ্চ-শক্তির হুল নির্মাণের জন্য উপযুক্ত, যেখানে EH50 50 টেন MP শক্তির সাথে উল্লেখযোগ্যভাবে উচ্চতর সর্বনিম্ন ফলন শক্তি প্রদান করে 610-770 MPa, উচ্চতর শক্তি-থেকে-ওজন অনুপাতের প্রয়োজন এমন আরও চাহিদাপূর্ণ লোড-ভারিং অ্যাপ্লিকেশনের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। উভয় গ্রেডে নিয়ন্ত্রিত রাসায়নিক গঠন বৈশিষ্ট্য রয়েছে, তবে EH50-এর জন্য সাধারণত TMCP-এর মতো আরও উন্নত প্রক্রিয়াকরণের প্রয়োজন হয় যাতে গুরুত্বপূর্ণ সামুদ্রিক পরিষেবার জন্য ভাল ওয়েল্ডেবিলিটি বজায় রেখে এর উন্নত যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলি অর্জন করা যায়।

রাসায়নিক রচনা

যান্ত্রিক সম্পত্তি